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Progettato per la fotografia in architettura, l'obiettivo TS-E 17 MM F/4L vanta una distorsione minima e offre una nitidezza ottimale su tutto il campo visivo. La rotazione indipendente dei meccanismi di basculaggio e decentramento assicura la massima versatilità.
Con un campo visivo diagonale di 104°, oltre a un'inclinazione di ±6,5°, un decentramento di ±12 mm e una rotazione di ±90° su entrambi i meccanismi, il modello TS-E 17 MM F/4L è uno degli obiettivi più flessibili attualmente sul mercato.
L'obiettivo TS-E 17 MM F/4L è dotato inoltre di blocchi sui meccanismi di basculaggio e decentramento che consentono di evitare movimenti indesiderati.
Per ottenere un'eccezionale risoluzione su tutto il campo visivo e una distorsione minima, viene utilizzata una lente asferica di vetro stampato ad alta precisione, dotata di un ampio diametro. L'aberrazione cromatica, frequente negli scatti grandangolari, viene eliminata da quattro elementi UD. Queste funzionalità rendono l'obiettivo particolarmente adatto per la fotografia in architettura.
Caratteristiche
Obiettivo ultragrandangolare decentrabile da 17 mm
Distorsione minima e risoluzione elevata
Basculaggio ± 6,5°; decentramento ±12 mm
Rotazione indipendente per basculaggio e decentramento
Lenti asferiche e UD
Rivestimenti Sub-Wavelength Structure e Super Spectra
Apertura circolare
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